Canon Inc. ist mit der Einführung seiner Nanoimprint-Lithographiesysteme in den Bereich der Halbleiterfertigung eingestiegen und hat sich zum Ziel gesetzt, Marktanteile zurückzugewinnen, indem es seine Technologie als einfachere und zugänglichere Alternative zu aktuellen Spitzenwerkzeugen positioniert. Diese neuen Chipherstellungsmaschinen von Canon können Schaltkreise im 5-Nanometer-Maßstab erstellen, indem sie extreme Ultraviolett-Lithographie (EUV) einsetzen, ein Bereich, der derzeit von ASML Holding NV, dem Branchenführer, dominiert wird. Canon geht davon aus, dass sein Gerät mit weiteren Weiterentwicklungen und Verbesserungen irgendwann die 2-nm-Produktion der nächsten Generation erreichen wird.
Während Canon mit Sitz in Tokio im EUV-Rennen hinter ASML zurückgefallen ist, könnte sein Nanoimprint-Lithographie-Ansatz helfen, diese Lücke zu schließen. Insbesondere könnten diese Maschinen dem anhaltenden Handelskrieg zwischen den USA und China möglicherweise eine neue Dimension verleihen, da der Import von EUV-Maschinen, der einzigen zuverlässigen Methode zur Herstellung von Chips kleiner als 5 nm, derzeit durch Handelssanktionen verboten ist. Die innovative Technik von Canon umgeht die Fotolithographie und prägt stattdessen das gewünschte Schaltkreismuster auf den Siliziumwafer. Da dieser Ansatz neu und eindeutig ist, ist es unwahrscheinlich, dass er durch bestehende Handelsbeschränkungen ausdrücklich verboten wird.
Canon hat sich noch nicht dazu geäußert, ob die neu eingeführten Geräte den Exportbeschränkungen Japans unterliegen werden. Dennoch verspricht die Nanoimprint-Lithographie-Technologie seit langem, eine kostengünstige Alternative zur optischen Lithographie zu bieten. In der Vergangenheit haben große Speicherhersteller wie SK Hynix Inc. und Toshiba Corp. hat die Nanoimprint-Geräte von Canon während ihrer Entwicklungsphase empfohlen und getestet. Die größte Herausforderung für Canon besteht nun darin, nachzuweisen, dass das Unternehmen die bisherigen Hindernisse, wie z. B. die hohen Fehlerraten, überwunden hat, die frühere Iterationen der Technologie beeinträchtigten.
Andererseits verzeichnete ASML, Europas höchstgeschätztes Technologieunternehmen, in den letzten fünf Quartalen ein kontinuierliches Umsatzwachstum und einen Auftragszufluss. Das Unternehmen mit Hauptsitz im niederländischen Veldhoven ist der führende Anbieter von EUV-Technologie für führende Chiphersteller weltweit und erwartet in diesem Jahr eine Steigerung des Nettoumsatzes um 30 %.
Canon-Aktien verzeichneten in diesem Jahr einen Anstieg von 26 % und profitierten von der breiteren Rally japanischer Aktien und der steigenden Nachfrage nach Chipherstellungsausrüstung, die durch das Aufkommen von Anwendungen der künstlichen Intelligenz angetrieben wird.
Im Gegensatz zu seinem früheren Fokus auf Produkte, die zur Herstellung weniger fortschrittlicher Chips verwendet wurden, vollzog Canon mit der Übernahme von Molecular Imprints Inc. einen bedeutenden Schritt in Richtung Nanoimprint-Lithographie. , einem Pionier auf diesem Gebiet, bereits im Jahr 2014. Das Unternehmen hat fast ein Jahrzehnt der Weiterentwicklung der Technologie gewidmet. Als Lieferant der Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Canon bereitet sich auf die Eröffnung seines ersten neuen Werks für Lithografiegeräte in Utsunomiya, nördlich von Tokio, im Jahr 2025 vor.