佳能公司 通过推出纳米压印光刻系统进入半导体制造领域，旨在通过将其技术定位为当前领先工具的更简单、更容易的替代品来重新获得市场份额。 佳能生产的这些新型芯片制造机在采用极紫外光刻（EUV）技术时可以制造出相当于 5 纳米尺度的电路，而该领域目前由行业领导者 ASML Holding NV 主导。 佳能预计其设备最终将通过进一步的进步和改进达到下一代 2nm 生产。
虽然总部位于东京的佳能在 EUV 竞赛中落后于 ASML，但其纳米压印光刻方法可能有助于缩小差距。 值得注意的是，这些机器可能会为正在进行的中美贸易战增添新的维度，因为 EUV 机器是制造小于 5nm 芯片的唯一可靠方法，但其进口目前受到贸易制裁的禁止。 佳能的创新技术绕过了光刻技术，而是将所需的电路图案压印到硅晶圆上。 由于这种方法新颖且独特，因此不太可能被现有的贸易限制明确禁止。
佳能尚未就新引进的设备是否会受到日本的出口限制发表评论。 尽管如此，其纳米压印光刻技术长期以来一直有望提供光学光刻的低成本替代方案。 过去，主要内存制造商如 SK 海力士公司 (SK Hynix Inc.) 和东芝公司 在佳能纳米压印机的开发阶段对其进行了认可和测试。 佳能现在的主要挑战是证明它已经克服了以前困扰该技术早期迭代的障碍，例如高缺陷率。
另一方面，欧洲估值最高的科技公司ASML在过去五个季度收入持续增长，订单大量涌入。 该公司总部位于荷兰费尔德霍芬，是向全球顶级芯片制造商提供 EUV 技术的领先供应商，预计今年的净销售额将增长 30%。
受益于日本股市大范围上涨以及人工智能应用出现带动的芯片制造设备需求上升，佳能股价今年飙升了26%。
与之前专注于制造不太先进芯片的产品不同，佳能通过收购 Molecular Imprints Inc. 向纳米压印光刻技术迈出了重大一步。 早在 2014 年，该领域的先驱。 该公司近十年来致力于进一步开发该技术。 作为台积电的供应商。 佳能正准备于 2025 年在东京北部的宇都宫开设第一家光刻设备新工厂。