Canon Inc. est entré dans le domaine de la fabrication de semi-conducteurs en introduisant ses systèmes de lithographie par nano-impression, dans le but de regagner des parts de marché en positionnant sa technologie comme une alternative plus simple et plus accessible aux outils de pointe actuels. Ces nouvelles machines de fabrication de puces produites par Canon peuvent créer des circuits équivalents à l'échelle de 5 nanomètres en utilisant la lithographie ultraviolette extrême (EUV), un domaine actuellement dominé par ASML Holding NV, le leader du secteur. Canon s'attend à ce que son appareil atteigne à terme la production 2 nm de nouvelle génération avec de nouvelles avancées et améliorations.
Bien que Canon, basée à Tokyo, ait pris du retard sur ASML dans la course aux EUV, son approche de lithographie par nano-impression pourrait aider à combler l'écart. Notamment, ces machines pourraient potentiellement ajouter une nouvelle dimension à la guerre commerciale en cours entre les États-Unis et la Chine, car l’importation de machines EUV, la seule méthode fiable pour fabriquer des puces de moins de 5 nm, est actuellement interdite par les sanctions commerciales. La technique innovante de Canon contourne la photolithographie et imprime le motif de circuit souhaité sur la plaquette de silicium. Cette approche étant nouvelle et distincte, il est peu probable qu’elle soit expressément interdite par les restrictions commerciales existantes.
Canon n'a pas encore précisé si les équipements nouvellement introduits seront soumis aux restrictions à l'exportation du Japon. Néanmoins, sa technologie de lithographie par nanoimpression promet depuis longtemps de fournir une alternative peu coûteuse à la lithographie optique. Dans le passé, les principaux fabricants de mémoire tels que SK Hynix Inc. et Toshiba Corp. approuvé et testé les machines de nano-impression de Canon pendant leur phase de développement. Le principal défi de Canon est désormais de démontrer qu'il a surmonté les obstacles précédents, tels que les taux de défauts élevés, qui freinaient les précédentes itérations de la technologie.
D'autre part, ASML, l'entreprise technologique la plus appréciée d'Europe, a connu une croissance continue de son chiffre d'affaires et un afflux de commandes au cours des cinq derniers trimestres. La société, dont le siège est à Veldhoven, aux Pays-Bas, est le principal fournisseur de technologie EUV des principaux fabricants de puces du monde entier et s'attend à une augmentation de 30 % de son chiffre d'affaires net cette année.
Les actions Canon ont connu une hausse de 26 % cette année, bénéficiant de la reprise plus large des actions japonaises et de la demande croissante d'équipements de fabrication de puces entraînée par l'avènement des applications d'intelligence artificielle.
Contrairement à sa concentration précédente sur les produits utilisés pour fabriquer des puces moins avancées, Canon a fait un pas important vers la lithographie par nano-impression en acquérant Molecular Imprints Inc. , pionnier dans ce domaine, dès 2014. L’entreprise a consacré près d’une décennie au développement de cette technologie. En tant que fournisseur de Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. , Canon se prépare à ouvrir sa première nouvelle usine d'équipements de lithographie à Utsunomiya, au nord de Tokyo, en 2025.