Canon Inc. вийшла на арену виробництва напівпровідників, представивши свої системи літографії з нановідбитками, прагнучи повернути собі частку ринку, позиціонуючи свою технологію як простішу та доступнішу альтернативу поточним передовим інструментам. Ці нові машини для виготовлення мікросхем, вироблені Canon, можуть створювати схеми, еквівалентні 5-нанометровому масштабу, використовуючи ультрафіолетову літографію (EUV), галузь, у якій зараз домінує ASML Holding NV, лідер галузі. Canon очікує, що її пристрій з часом досягне 2-нм виробництва наступного покоління з подальшими вдосконаленнями та вдосконаленнями.
Хоча компанія Canon, що базується в Токіо, відстала від ASML у гонці EUV, її підхід до літографії з нановідбитком може допомогти подолати розрив. Примітно, що ці машини потенційно можуть додати новий вимір до триваючої торговельної війни між США та Китаєм, оскільки імпорт машин EUV, єдиного надійного методу виготовлення мікросхем розміром менше 5 нм, наразі заборонений торговельними санкціями. Інноваційна технологія Canon обходить фотолітографію та натомість наносить на кремнієву пластину бажаний малюнок схеми. Оскільки цей підхід є новим і чітким, навряд чи він буде прямо заборонений існуючими торговими обмеженнями.
Canon поки що не прокоментувала, чи поширюватиметься на нове обладнання експортні обмеження Японії. Тим не менш, його технологія літографії наноімпринту вже давно обіцяє стати недорогою альтернативою оптичній літографії. У минулому великі виробники пам’яті, такі як SK Hynix Inc. і Toshiba Corp. схвалив і випробував машини Canon для нанодруку на етапі їх розробки. Головне завдання Canon зараз полягає в тому, щоб продемонструвати, що вона подолала попередні перешкоди, такі як високий рівень дефектів, які переслідували попередні ітерації технології.
З іншого боку, ASML, найбільш цінна європейська технологічна компанія, за останні п’ять кварталів спостерігала постійне зростання доходів і приплив замовлень. Компанія зі штаб-квартирою у Велдховені, Нідерланди, є провідним постачальником технології EUV для провідних виробників мікросхем у всьому світі та очікує збільшення чистих продажів на 30% цього року.
Цього року акції Canon зросли на 26% завдяки ширшому зростанню японських акцій і зростанню попиту на обладнання для виробництва мікросхем, спричиненому появою програм штучного інтелекту.
На відміну від свого попереднього зосередження на продуктах, які використовувалися для виробництва менш просунутих мікросхем, Canon зробила значний крок у напрямку літографії з наноімпринтом, придбавши компанію Molecular Imprints Inc. , піонером у цій галузі, ще у 2014 році. Компанія присвятила майже десять років подальшому розвитку технології. Як постачальник для Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. , Canon готується відкрити свій перший новий завод з виробництва літографічного обладнання в Уцуномія, на північ від Токіо, у 2025 році.